A         玻璃基板：使用氧和氩等离子体，对其表面进行轰击，可祛除表面污染物，使工件亲水性大大提高。清洗后，其水滴夹角小于5度，为下道工序的良好进行奠定基础。

B        阳极表面改性：采用氧气等离子体对ITO阳极进行表面改性，可有效优化其表面化学组成，大大降低方块电阻。从而有效提能量转换效率，器件的光伏性能

C      涂保护膜前处理：硅表面非常光亮，会反射掉大量的太阳光。因此，在其上沉积一层反射系数非常小的氮化硅保护膜是非常重要的。通过采用氧和氩等离子体处理，可活化硅表面，大大提供其表面附着力。

2、金属氧化物的祛除

化学清洗:表面反应以化学反应为主的等离子体清洗，又称PE。

例：O2＋e－→ 2O※ +e－     O※＋有机物→CO2+H2O

从反应式可见，氧等离子体通过化学反应可使非挥发性有机物变成易挥发的H2O和CO2。

    例：H2+e-→2H※+e-      H※+非挥发性金属氧化物→金属＋H2O

从反应式可见，氢等离子体通过化学反应可以去除金属表面氧化层，清洁金属表面。

物理清洗：表面反应以物理反应为主的等离子体清洗，也叫溅射腐蚀（SPE）。

例：Ar＋e-→Ar++2e-       Ar++沾污→挥发性沾污

Ar+在自偏压或外加偏压作用下被加速产生动能，然后轰击被清洗工件表面，一般用于去除氧化物、环氧树脂溢出或是微颗粒污染物，同时进行表面能活化。