等离子体射流源处理材料表面研究

低温等离子体的特殊性能可以对金属、半导体、高分子材料等进行表面改性。材料表面改性的等离子体改性技术已广泛应用于电子、机械、纺织、生物医学工程等领域。目前，低温等离子体与材料相互作用的研究已经发展成为国外上活跃的领域。研究其相互作用的物理化学过程机理，是发展微电子学、固体表面改性、功能材料等材料领域里的重要课题。低温等离子体高的活性，在室温下可以引起多种化学反应或物理掺杂，而基质材料的本体性能不受影响。等离子体化学气相沉积（CVD）物理气相沉积（PVD）方法已广泛用于制备功能材料，显示出低温等离子体对材料表面改性有着较大的优势。通过低温等离子体表面处理，材料表面发生多种的物理，化学变化，或产生刻蚀而粗糙，或形成致密的交联层，或引入含氧极性基团，使材料的亲水性、粘结性、可染色性、生物相容性及电性能分别得到提升。 

低温等离子体技术在有机材料上的应用有很大的优势，它的优点如下①属于干式工艺，省能源，无公害，满足节能和环保的需要；②时间短，效率高；③对所处理的材料无严格要求，具有普遍适应性；④可处理形状复杂的材料，材料表面处理的均匀性好；⑤反应环境温度低；⑥对材料表面的作用仅涉及几到几百纳米，材料表面性能提升的同时，基体性能不受影响。